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Product Center等離子清洗機鄭科 探KT-S2DQX通常被用在 一:等離子表面活化/清洗;二:等離子處理后粘合;三: 等離子蝕刻/活化 四: 等離子去膠;五:等離子涂鍍(親水,疏水); 六: 增強綁定性;七:等離子涂覆;八:等離子灰化和表面改性等場合。 通過其處理,能夠改善材料表面的浸潤能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂。
品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
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應用領域 | 化工,電子 |
等離子清洗機鄭科 探KT-S2DQX
等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。
等離子清洗機鄭科 探KT-S2DQX參數
供電電源 | AC220V(AC110V可選) |
工作電流 | 整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵) |
射頻電源功率 | 150W |
射頻頻率 | 13.56MHz |
頻率偏移量 | <0.2MHz |
特性阻抗 | 50歐姆,手動匹配 |
耦合方式 | 電容耦合 |
真空度 | ≤100Pa |
腔體材質 | 高純石英 |
腔體容積 | 2L(內徑110MMX深度220MM) |
觀察窗內徑 | Φ65 |
氣體流量 | 10—100ml/min(其他量程可選) |
過程控制 | 過程手動控制 |
清洗時間 | 手動開關 |
開蓋方式 | 鉸鏈側開式法蘭 |
外形尺寸 | 400x380x360mm |
重量 | 23Kg |
真空室溫度 | 小于65°C |
冷卻方式 | 強制風冷 |
標配 | KF16真空管1米,kf16卡箍2個,不銹鋼網匣1個,電源線一根,說明書一本。 |