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產(chǎn)品中心

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等離子清洗機表面處理設(shè)備

產(chǎn)品簡介

等離子清洗機表面處理設(shè)備內(nèi)置不高純石英倉體,容積為2升,結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù),使其有效容積增大,不同真空氣體環(huán)境下容易匹配,且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi),即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作,特別適用科學(xué)實驗樣品清洗 和教學(xué)

產(chǎn)品型號:KT
更新時間:2024-03-30
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:1238
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品牌鄭科探產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域電子

    KT-S2DQX型等離子清洗機表面處理設(shè)備屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實驗等。

      等離子清洗機表面處理設(shè)備內(nèi)置不高純石英倉體,容積為2升,結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù),使其有效容積增大,不同真空氣體環(huán)境下容易匹配,且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi),即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作,特別適用科學(xué)實驗樣品清洗 和教學(xué)

 

供電電源

AC220VAC110V可選)

工作電流

整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)

射頻電源功率

150W

射頻頻率

13.56MHz

頻率偏移量

0.2MHz

特性阻抗

50歐姆,手動匹配

耦合方式

感應(yīng)耦合式(線圈耦合)

真空度

≤100Pa

腔體材質(zhì)

高純石英

腔體容積

2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)

觀察窗內(nèi)徑

Φ70

氣體流量

10—600ml/min(其他量程可選)

過程控制

過程手動控制

清洗時間

手動開關(guān)

開蓋方式

鉸鏈側(cè)開式法蘭

外形尺寸

400x380x360mm

重量

23Kg

真空室溫度

小于65°C

冷卻方式

強制風(fēng)冷

標配

KF16波紋管1米,kf16卡箍2,電源線一根,說明書一本。

 

    等離子清洗機具備有超清洗功能,并且在特定條件下還可根據(jù)需要改變用于某些材料表面的性能,如把等離子清洗機的等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。RFC-2C在超清洗過程中等離子清洗機的輝光放電不但能夠加強多數(shù)材料的粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌。RFC-2C等離子清洗機廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

 

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